鍍膜波長范圍:
193nm~11μm
先進的鍍膜設(shè)施:
公司擁有30+種類齊全、性能先進的全套物理氣相沉積鍍膜設(shè)施(從日本、美國和德國進口)。包括離子輔助電子槍(EB-IAD),離子濺射(IBS),磁控濺射(MS)等鍍膜機器。
領(lǐng)先的鍍膜開發(fā)能力:
公司擁有技術(shù)水平卓越的鍍膜設(shè)計與工藝團隊,
可提供全品類鍍膜產(chǎn)品及定制化工藝解決方案,具體涵蓋:
1. 光通訊領(lǐng)域濾光片(LWDM,CWDM, XGPONs等 )
2. 高功率激光鍍膜
3. 生物醫(yī)療領(lǐng)域濾光片
4. 多元化鍍膜工藝開發(fā):可在光學(xué)玻璃、光學(xué)晶體、Si(硅)、Ge(鍺)等多種基片上,實現(xiàn) AR(增透膜)、HR(高反膜)、PR(部分反射膜)、PBS(偏振分光膜)、NPBS(非偏振分光膜)、ITO(導(dǎo)電膜)、金屬膜等各類功能膜系的量產(chǎn)工藝開發(fā)
5. 濾光膜專項支持:支持單波長、多波長濾光膜的定制開發(fā),適配不同場景下的精準分光需求